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上海微电子光刻机股票,如果中国可以做出光刻机,欧美国家会有什么反应?

Q1:如果中国可以做出光刻机,欧美国家会有什么反应?

前段时间,中芯国际向荷兰ASML订购了一台EUV极紫外光刻机,这是中芯用于7nm工艺的光刻机。但是,ASML的突然意外失火,让中芯错失这台机器。实际上,就算不失火,我估计中芯也拿不到这台机器!“技术的垄断”不会让我们掌握这项关键性技术。我们即使无奈,却只能“忍气吞声!”

我们先解决一个问题:为什么荷兰ASML公司可以垄断80%的光刻机市场份额?原因很简单,技术先进。而我们为什么制造不出光刻机?同样原因很简单:技术落后!

我们首先要知道,光刻机是什么?

光刻机,通过将各路电路的图案经过激光,缩微投影爆光到光刻胶上。看似简单的解释,其实非常复杂。所以,如今做的最好的就是荷兰的ASML的光刻机。而,尼康,佳能,中国的上海微电子装备和它相比还远远不如。

那么,为什么台积电,三星可以拥有ASML最先进的光刻机呢?主要是因为台积电,三星在ASML中都有股份。所以,它们可以第一时间使用到ASML公司的光刻机。

目前,我国为了摆脱这种困境,专门成立了,上海微电子装备有限公司(SMEE)。终于在2007年研究出了90nm高端投影光刻机;而在2016年内部验收了28nm光刻机。虽然说和荷兰ASML的7nm光刻机相去胜远,但是这已经是进步。

其实,上海微电子的在光刻机领域的进步虽然有目共睹,但是和荷兰之间的差异还是非常大的。这里主要是因为一些关键零部件,还是来欧美发达国家,比如瑞典的轴承,德国的镜头,美国的光栅,法国的阀件等等。而这些国家对于中国零部件都是禁运的。

所以,在这些关键的零部件中对中国进行禁售,也是反映了欧美国家害怕,一旦中国掌握了光刻机技术,会对欧美国家产生多大的影响,特别是在芯片领域的自主。

而光刻机中的一些关键技术,需要我们特别注重基础科学研究,加大投入。只有在慢慢的投入过程中获得提升,才能够摆脱西方国家的垄断。

中国本身就是可以造出光刻机的,不过比世界最先进的标准差两到三代,荷兰阿斯麦的高端光刻机现在可以做出7纳米工艺的成熟产品,下一步应该是5纳米,3纳米。

不过最近两年我国光刻设备研发取得长足的进步,发展惊人,就在前两天爆出喜讯,中科院光电研究所攻关研制出世界首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。其实计划是2030年要达到世界先进水平,与世界先进技术齐平,以现在看来可能会提前完成目标。

我国光刻技术进步,会使世界上的光刻设备销售价变成白菜价,荷兰阿斯麦的高端光刻设备售价可以达到1亿多美金一台,光一个极紫外光源就要3000万,而我们的紫外光源只要几万块钱一个,光刻机整机也只需百万级别,到千万级别的。其实我们去买它们的最顶端的光刻机,根本就不会卖给我们。

Q2:光刻机是芯片制造的关键,现在在中国有哪些企业能够研制光刻机?

国内光刻机技术比较先进,已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司(简称SMEE),已经实现90nm的量产,目前正在研究65nm的工艺。

其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业,在光刻机上衣和有自己的成果。

但这些光刻机企业,目前还是在原来的道路上一步一步往前走,相信只要努力,未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说,他们的追赶速度虽然很快,但技术进步的速度也是很快。所以,他们只能持续在低端方面,占有一定的市场份额。

如果要进入高端市场,目前国内最先进的光刻机技术,应该是中科院光电技术研究所的技术成果。

2018年11月29日,新华社报道称,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉,该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果,直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然,这个科研成果,距离完整实现量产,还有好几个关卡要过。

首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试,属于单次曝光,还制造不了芯片。其次是,能够实验室制造芯片,还要实现量产,这又是一个关卡。但总的来说,已经有了“光刻分辨力达到22纳米”,那么距离成型机,已经没有那么遥远了。

Q3:国产光刻机与ASML差距究竟有多大?

我觉得国产光刻机的发展前景还是很好的,需要进一步的研发。

Q4:上海微电子装备的光刻机能达到什么水平?

600系列光刻机——IC前道制造基于先进的扫描光刻机平台技术,提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需,包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

500系列光刻机——IC后道、MEMS制造
基于先进的步进光刻机平台技术,提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用ghi线的高功率汞灯作为曝光光源,其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺,以及3D-TSV结构等具有良好的自动适应性,并通过采用具有专利的图像智能识别技术,无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点,可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。

300系列光刻机——LED/MEMS/Power Devices制造
300系列光刻机面向亚微米2-6英寸晶圆的光刻市场需求,支持亚微米节点条件下的各种半导体光刻制程,特别包括LED图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺。
200系列光刻机—AM-OLED显示屏制造
200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术,专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线,也可用于基板尺寸为 G2.5(370mm × 470mm)到G5.5(1300mm × 1500mm)的AM-OLED显示屏量产线。

Q5:国产芯片概念股龙头有哪些

士兰微(行情 研报):入股安路科技,进军高端芯片领域
士兰微 600460
研究机构:东北证券(行情 研报) 分析师:吴娜 撰写日期:2015-07-22
事件:
公司拟与控股股东的控股子公司士兰创投共同出资入股安路科技,双方分别出资1,000万元认购安路科技新增注册资本,各获得安路科技6%的股权。安路科技成立于2011年,公司专注于高集成度、高性价比的可编程逻辑器件(FPGA)产品和可编程逻辑器件IP核。公司的核心技术团队成员经验丰富,多数在世界领先的FPGA或EDA公司从事10年以上的高级技术研发和管理工作。安路科技已量产AL3系列自主知识产权的FPGA产品,2014年营业收入352万元,净利润-670万元。
点评:
FPGA是应用广泛的高端芯片,未来市场前景广阔。可编程逻辑器件FPGA是一类重要的集成电路芯片,广泛应用于通信、信息安全、工业、汽车、物联网、消费电子等领域,2014年全球市场规模约50亿美元。FPGA芯片市场高度垄断,美国Xilinx和Altera公司的全球市场占据率约90%。大陆FPGA的市场规模约16亿美元,几乎全部依赖进口,国产化需求迫切。FPGA有望成为物联网设备的核心处理器芯片,未来成长空间巨大。入股安路科技,快速切入高端芯片市场。士兰微是国内最大的集成电路IDM厂商,在功率器件、模拟电路、传感器等领域处于国内领先地位。公司投资安路科技,快速切入先进的逻辑芯片领域,有助于丰富公司的产品线结构,增强公司的行业领先地位。安路科技已经量产AL3系列FPGA产品,虽然去年亏损670万元,但营收已达352万元,有望快速实现盈利,公司投资风险较小。盈利预测。预计公司2015-2017年EPS分别为0.17/0.21/0.25元,当前股价对应动态PE分别为48/39/33倍。考虑到公司的长期投资价值和行业地位,维持“增持”评级。

Q6:光刻机板块中3.7元股票是哪一个?

您好,只有4块钱的澄星股份。、,没有看到3元的
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